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MEMS加工

為成就您的產(chǎn)品，而努力

Work hard to make your product

器件封裝
  • 倒裝鍵合
    芯片尺寸：5*5mm-5*5cm 厚度<2mm，溫度<450℃ 精度：±3μm，壓力<100kg，2寸晶圓對晶圓鍵合
  • 晶圓鍵合
    陽極鍵合、共晶鍵合（PbSn，AuSn，CuSn，AuSi等等）、膠鍵合（BCB，SU8，鍵合專用膠)，對準(zhǔn)精度±5μm
  • 點(diǎn)膠
    工作范圍：≤300*300mm，膠量控制：容積式和氣壓式，膠水黏度<50kCPS，單次膠量<0.16900ml，時(shí)間設(shè)置范圍<9.999sec
  • 貼片
    銀漿、焊料
  • 引線
    球形焊、楔形焊；Au線，Al線
  • 回流爐
    真空：2mbar，溫度<450℃±0.05℃
  • 平行封焊
    各類金屬管殼，位置精度：±0.0381mm，壓力<5kg
  • TSV（硅通孔）工藝
    1、通孔的形成；2、絕緣層、阻擋層和種子層的淀積；3、電鍍填充，去除和再布線；4、晶圓減?。?、鍵合、劃片
  • TGV（玻璃通孔工藝）
    可完成打孔、沉積、填充再布線、減薄、鍵合劃片等。





    • 案例展示


                               

            底層管芯與頂層管芯堆疊連接            Cu-Cu Metal Diffusion Bond             TSV（Cu&Sn鍵合）Process            Ultra High Density TGV For MEMS







    晶邊刻蝕工藝詳解
    晶邊刻蝕工藝詳解

    2025-12-26

    3D NAND 因堆疊層數(shù)激增，晶圓中心到邊緣的膜層厚度差異可達(dá) 20% 以上，為缺陷埋下隱患。最常見的剝落缺陷，根源在于膜層應(yīng)力與附著力失衡：沉積...

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    為什么勻膠后不洗邊良率直接跌20%？
    為什么勻膠后不洗邊良率直接跌20%？

    2026-01-23

    洗邊本質(zhì)是通過消除邊緣工藝偏差，保障晶圓全局的工藝一致性。勻膠時(shí)，晶圓在高速旋轉(zhuǎn)下，光刻膠受離心力作用向邊緣擴(kuò)散，但受表面張力、晶圓邊緣形貌...

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    MEMS犧牲層去除技術(shù)詳解
    MEMS犧牲層去除技術(shù)詳解

    2025-07-21

    在MEMS器件的制造流程中，犧牲層去除工藝始終是決定器件良率與可靠性的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。這一過程的核心挑戰(zhàn)在于：如何在釋放可動(dòng)微結(jié)構(gòu)的同時(shí)，避免因機(jī)...

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    濕法腐蝕工藝開發(fā)的過程中需要注意哪些問題？
    濕法腐蝕工藝開發(fā)的過程中需要注意哪些問題？

    2025-08-22

    1.現(xiàn)有工藝復(fù)用優(yōu)先原則 2，新工藝開發(fā)的成本-風(fēng)險(xiǎn)模型 1.腐蝕液配方設(shè)計(jì)三原則 原則2——工藝窗口寬泛化：±2℃時(shí)腐蝕速率變化<5%；HCl體系pH...

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