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為什么深硅刻蝕中C4F8能起到鈍化作用?
為什么深硅刻蝕中C4F8能起到鈍化作用?

2024-11-27

RIE是一種結合了物理濺射和化學反應雙重機制的刻蝕技術。在等離子體中,離子和中性自由基共同作用于材料表面。其中,自由基的密度遠高于離子,它們通...

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【半導體材料】電子封裝材料有哪些?
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2024-11-29

電子封裝材料作為連接芯片與外部世界的橋梁,其重要性不言而喻。合格的封裝不僅能夠為芯片提供物理保護,實現(xiàn)標準規(guī)格化的互連,更是確保電子產(chǎn)品性能...

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【MEMS工藝】三種常見CVD技術,你知道的有哪些?
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2024-11-04

本文將詳細介紹目前三種常見的CVD技術——低壓化學氣相沉積(LPCVD)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)以及高密度等離子體化學氣相沉...

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【微納加工】晶圓傳輸設備,是智能制造加速器還是成本黑洞?
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2024-11-05

在半導體芯片制造中,從原材料處理到最終封裝測試,整個流程涉及上千道工序,每一環(huán)節(jié)都需要精確控制,以確保芯片的性能與質量。隨著科技的飛速發(fā)展,...

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